"asml,光刻机消息称台积电 7nm 及以下制程工艺产能利用率...ASML,光刻机消息称台积电 7nm 及以下制程工艺产能利用率...
IT之家6月23日消息，据彭博社报道，荷兰政府计划最快下周出台新的出口管制措施，将限制ASML半导体制造设备的出口。
▲ 图片来源：ASML
报道称，NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i等深紫外(DUV)浸没式光刻设备已被列入出口管制清单。 IT之家注意到，该系列设备最高可支持 5 nm 工艺，例如台积电已利用 SAQP 和氩氟浸没（ArFi）光刻实现 7 nm 量产。 此前，ASML最先进的极紫外（EUV）光刻机已被列入出口管制清单。
彭博社援引知情人士的话称，这项新的出口管制规定最早将于6月30日或7月第一周公布，可能会成为其他欧盟成员国效仿的对象。 荷兰政府发言人拒绝置评。 。
报道指出，这是自今年1月荷兰和日本原则同意加入美国限制向中国大陆出口先进半导体制造设备以来的最新举措。 半导体技术出口。
IT之家昨天报道称，ASML执行副总裁兼商务总监声称，建立完全独立的芯片产业链几乎是不可能的。 这样做的成本极高且困难。 日本光刻机制造商佳能和尼康就是过去的例子。 。
